在半導體加工過程中需要使用水進行處理，該水質(zhì)的要求非常高，不能含有任何離子雜質(zhì)。半導體行業(yè)用超純水設備采用先進的制水技術，有效去除水中雜質(zhì)，保證設備的出水水質(zhì)。半導體超純水設備用水水質(zhì)標準半導體超純水設備是應用于半導體生產(chǎn)零件清洗的超純水設備,需要符合特定的用水水質(zhì)標準,下面詳細介紹半導體行業(yè)超純水水質(zhì)的標準要求和超純水設備制備工藝及應用：

半導體超純水設備水質(zhì)標準要求:

半導體超純水設備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。

半導體超純水設備制備工藝:

1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(新工藝)

3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(新工藝)

4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(新工藝)

5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

半導體超純水設備的應用領域:

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗。

電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水。

黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液。

晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片。

集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水。

半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗。高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)。

汽車、家電表面拋光處理。